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HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！
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新鉑科技專(zhuān)注于高功率脈沖等離子體真空鍍膜技術(shù)
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電源
HiPIMS電源，P3E電源， 100KHz偏壓電源
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設(shè)備
高功率磁控PVD設(shè)備
高能脈沖弧PVD設(shè)備、管道PECVD鍍膜設(shè)備 -
工藝
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
產(chǎn)品及解決方案
應(yīng)用案例
about us
關(guān)于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線(xiàn)和5條檢測(cè)調(diào)試線(xiàn)，廠(chǎng)房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專(zhuān)業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷(xiāo)售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
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4.5星級(jí)
客戶(hù)好評(píng)
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50+個(gè)
課題合作研發(fā)
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20+個(gè)
定制開(kāi)發(fā)項(xiàng)目
企業(yè)榮譽(yù)
新聞中心
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新鉑科技助力東莞長(zhǎng)安鎮(zhèn)真空鍍膜產(chǎn)業(yè)邁向新高地
2025年11月12日，“長(zhǎng)安鎮(zhèn)真空鍍膜企業(yè)科技賦能研討會(huì)”（科技+產(chǎn)業(yè)方舟系列活動(dòng)）在東莞市長(zhǎng)安國(guó)際酒店成功舉行。本次會(huì)議由東莞市長(zhǎng)安鎮(zhèn)經(jīng)濟(jì)發(fā)展局與松山湖材料實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合主辦，新鉑科技（東莞）有限公司與平安銀行東莞分行共同協(xié)辦...
- 2025-11-24 09:29:02 | →
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新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc
新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開(kāi)的30屆國(guó)際熱處理和表面工程大會(huì)，公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報(bào)告，對(duì)于國(guó)內(nèi)外的嘉賓分享了我們?cè)贖ipims研究領(lǐng)域包括電源和應(yīng)用端的新進(jìn)展。...
- 2025-09-01 16:07:48 | →
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真空鍍金專(zhuān)用高能脈沖磁控電源
新鉑公司CTO 2025年8月24日赴東莞麻涌鎮(zhèn)豪豐環(huán)保產(chǎn)業(yè)園參加了“電鍍金新技術(shù)”專(zhuān)題研討會(huì)，交流了真空鍍金的高能脈沖濺射電源及應(yīng)用技術(shù)。...
- 2025-09-01 16:06:21 | →
真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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HIPiMS技術(shù)對(duì)材料性能有哪些具體影響
HIPiMS技術(shù)（高功率脈沖磁控濺射技術(shù)）對(duì)材料性能的影響主要體現(xiàn)在薄膜的微觀(guān)結(jié)構(gòu)、致密度、機(jī)械性能以及功能特性等方面。...
- 2025-05-15 14:36:02 | →
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高功率脈沖是多少赫茲
在工業(yè)領(lǐng)域，像高功率脈沖激光加工設(shè)備，為實(shí)現(xiàn)材料切割、焊接或表面處理，其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時(shí)，幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質(zhì)量的同時(shí)，有效控制熱影響區(qū)域，防止板材因過(guò)熱變形。...
- 2025-03-15 10:57:21 | →
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反應(yīng)氣體的選擇和配比如何影響真空鍍膜的成分和性能？
在化學(xué)氣相沉積（CVD）真空鍍膜中，反應(yīng)氣體的選擇與配比宛如一雙無(wú)形卻有力的大手，對(duì)鍍膜的成分和性能起著決定性作用。...
- 2025-03-13 16:58:09 | →
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在光學(xué)鍍膜應(yīng)用中，如何通過(guò)控制膜層厚度和折射率來(lái)實(shí)現(xiàn)特定的光學(xué)性能
設(shè)備精度保障：使用高精度的鍍膜設(shè)備，如采用電子束蒸發(fā)或磁控濺射設(shè)備，其厚度控制精度可達(dá)納米級(jí)。這些設(shè)備配備膜厚監(jiān)測(cè)儀，實(shí)時(shí)反饋膜層生長(zhǎng)情況，控制提供硬件基礎(chǔ)。...
- 2025-03-07 10:24:23 | →
管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過(guò)飽和而酸化，...
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真空鍍膜技術(shù)如何實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積
真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過(guò)以下幾種方式： 一、交替沉積法...
- 2024-10-31 10:29:45 | →
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真空鍍膜的附著力探討
一般來(lái)說(shuō)，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來(lái)進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此，HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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